推荐产品3推荐产品2推荐产品1
新闻内容News

工艺光刻新工艺GlobalFoundries 20nm工艺成功流片

GlobalFoundries今天宣布,最新的20nm工艺试验芯片已于近日成功流片,这也是新工艺发展之路上里程碑式的关键一步。

GlobalFoundries 20nm工艺使用了四家电子设计自动化(EDA)厂商的工艺流程,分别是Cadence Design Systems、Magma Design Automation、Mentor Graphics Corporation、Synopsys Inc.。

通过此次成功流片,GlobalFoundries证明自己已经做好准备,可以接受客户对20nm新工艺的评估了,不过除了畅谈和几家EDA伙伴之间的亲密合作之外,GlobalFoundries并未透露新工艺的更多细节,博包括使用了哪些新技术、有哪些潜在客户、何时能够量产等等。

20nm是迄今为止最为先进的半导体技术。今年初的时候,IBM曾经展示过全世界第一块20nm工艺晶圆,使用了HKMG和Gate-Last技术。七月中旬的时候,三星电子也宣布完成了全球第一颗20nm工艺试验芯片的流片。

根据此前消息,GlobalFoundries 22/20nm可能会首次使用先进的极紫外光刻技术,唯一的问题就是要到2014-2015年才能量产。曾有一份AMD路线图显示2013年的服务器处理器会采用28nm工艺,这是否意味着AMD会耐心等待极紫外光刻的20nm呢?

 0.54515600204468 s